(주)태주

듀폰은 마이크로 리소그래피 재료를 설계하여 기존 마이크로 리소그래피 공정을 개선하고, 고급패턴화 공정을 지원합니다.
ArF포토레지스트, KrF포토레지스트, I/G라인 포토레지스트, 유기 바닥 반사 방지 코팅(BARC)재료 등 다양한 제품 및 서비스를 지원합니다.

1) Photoresist
각종 감광재, EUV, ArF, KrF, i-라인, g-라인

2) Advanced Overcoats
포토레지스트와 함께 사용되는 듀폰의 고급 오버코드 소재는 결함을 방지하고 리소그래피 공정 창을 개선하도록 설계되 보다 미세한 피쳐 패턴이 가능합니다.

3) Anti-Reflectants & Functional Sublayers
반사방지코팅 및 서브레이어는 공정 및 반사율 창을 넓히고 개선하여 리소그래피의 효과를 높입니다.

4) Ancillary Lithography Materials
보조적인 리소그래피 제품 라인업인 디벨로퍼, 리무버, 기타 인핸스먼트 케미스트리에서 토탈 리소그래피솔로션을 지원합니다.